专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：涂敷装置专利类型：发明专利发明人：宫本英典
申请号：CN201210037512.6申请日：20120216公开号：CN1026753A公开日：20120822
摘要：提供一种涂敷装置，其具有：将含有易氧化性的金属的液状体涂敷到基板上的涂敷部；对涂敷所述液状体之前的所述基板进行前处理的前处理部；以及连接部，该连接部具有连接空间，该连接空间对由所述涂敷部涂敷所述液状体的涂敷空间与由所述前处理部进行所述前处理的前处理空间进行连接，所述连接部被设置成可进行调整，使得所述连接空间的气体环境成为惰性气体的气体环境。
申请人：东京应化工业株式会社
地址：日本神奈川县
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：雒运朴
更多信息请下载全文后查看
