一种真空离子镀电化学退镀液配方

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201710557320.0 （22）申请日 2017.07.10

（71）申请人 广州市双石金属制品有限公司

地址 511440 广东省广州市番禺大石街涌口村工业区230号

（10）申请公布号 CN107460532A

（43）申请公布日 2017.12.12

（72）发明人 朱常锦;朱元义

（74）专利代理机构 广州科粤专利商标代理有限公司

代理人 蒋欢妹

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

一种真空离子镀电化学退镀液配方

（57）摘要

本发明公开了一种真空离子镀电化学退镀

液配方，按质量百分比计，该配方包括1‑5％的腺苷二磷酸酰胺衍生物或腺苷三磷酸酰胺衍生物，5‑15％的强酸，0.1‑1％的硅酸钠，0.1‑5％的EDTA，2‑20％的盐，0.1‑3％的乌洛托品，0.1‑1％的三乙醇胺，其余为溶剂；本发明和传统的退镀液相比，在于加入了腺苷二磷酸酰胺衍生物和腺苷三磷酸酰胺衍生物，利用其独特的分子结构，与膜层材料相互作用，加速了退镀的速率，具有

明显的进步。

法律状态

法律状态公告日

2017-12-12 2017-12-12 2017-12-12 2018-01-05 2018-01-05 2018-12-07

法律状态信息

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

法律状态

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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