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专利名称：非线性光学晶体的氢钝化专利类型：发明专利
发明人：勇-霍·庄,弗拉基米尔·德里宾斯基申请号：CN201280059827.9申请日：20121005公开号：CN103975272A公开日：20140806
摘要：本发明包括暴露室，其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体，所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体；钝化气体源，其流体连接到所述暴露室，所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分；及衬底，其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内，所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度，所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
申请人：科磊股份有限公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人：张世俊
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