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专利名称：活塞环专利类型：发明专利
发明人：相泽健,久保敬纯,大宫隆雄申请号：CN201110214662.5申请日：20110729公开号：CN102345084A公开日：20120208
摘要：本发明提供一种密合性良好地形成耐磨耗性和耐擦伤性优异、且配合对象攻击性低的喷涂叠层被膜而得到的活塞环。其在滑动面上依次形成有喷涂基底层(3)和喷涂表面层(4)，所述喷涂基底层(3)通过喷涂至少包含Mo粉末、Ni基自熔性合金粉末、及Cu或Cu合金粉末的混合粉末而形成，所述喷涂表面层(4)含有Cu，其中，所述喷涂基底层(3)至少含有50～80质量％的Mo、1～12质量％的Cu或Cu合金、以及余量为Ni基自熔性合金，在该喷涂基底层(3)的滑动面上显现的Cu或Cu合金相的面积率为0.5～15％，所述喷涂表面层含有70～100质量％的Cu。
申请人：日本活塞环株式会社
地址：日本埼玉县
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：张平元
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